三洋電機(jī)日前成功制作出具有實(shí)用尺寸(
制造商一直致力于使用更薄的硅晶圓,這樣可以降低單晶硅(c-Si)太陽(yáng)能電池的成本,而且可以與薄膜電池技術(shù)聯(lián)系在一起。除更加便宜之外,薄的太陽(yáng)能電池重量更輕也更柔軟。然而,降低晶圓厚度也會(huì)降低光吸收,從而降低轉(zhuǎn)換效率。
三洋的HIT(使用本征薄層的異質(zhì)結(jié))太陽(yáng)能電池將單晶硅襯底和非晶硅(a-Si)薄膜結(jié)合在一起。在他們最新的薄層電池研究中,通過(guò)提高硅晶圓的光捕獲效應(yīng)來(lái)解決效率損耗的問(wèn)題。研究人員通過(guò)優(yōu)化硅的表面織構(gòu),可以降低透明導(dǎo)電氧化層(TCO)和a-Si層的光學(xué)吸收損耗。這使得98 µm 厚HIT電池的短路電流(ISC)可以由37.3 mA/cm2(電池厚度為85 µm時(shí)的值)提高到38.8 mA/cm2。
HIT結(jié)構(gòu)的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是提高了pin結(jié)的光學(xué)能帶間隙寬度,從而提高了開(kāi)路電壓(VOC)。P型a-Si的帶隙比n型c-Si的能量帶隙要寬,從而使得VOC更高。使用三洋的新技術(shù),研究人員已經(jīng)將這一電壓值由0.729 V進(jìn)一步提高到了0.743 V,根據(jù)三洋研發(fā)中心太陽(yáng)能研究分部主任Eiji Maruyama的說(shuō)法,這一改進(jìn)主要是通過(guò)減少a-Si與c-Si層間界面處的缺陷獲得的。他說(shuō),如果界面位置存在較高密度的缺陷,由于帶隙釘扎效應(yīng)能量帶隙將被壓縮。a-Si層界面位置處懸掛鍵密度的降低可以提高VOC值。
硅表面織構(gòu)主要是金字塔型織構(gòu),優(yōu)化的一個(gè)關(guān)鍵步驟是控制金字塔結(jié)構(gòu)的傾角大小。太陽(yáng)光在硅中移動(dòng)的距離越長(zhǎng),吸收的光就越多,也就對(duì)應(yīng)著更高的效率。該公司抑制了p型、i型a-Si的光吸收率,而增強(qiáng)n型c-Si的光吸收率。結(jié)果是,在約400-450 nm的短波范圍里,轉(zhuǎn)換效率得到了提升。
在太陽(yáng)能電池的金字塔型織構(gòu)中,傾角是提高效率的關(guān)鍵。
為提高約1000 nm的長(zhǎng)波范圍內(nèi)的效率,三洋開(kāi)發(fā)了一種新材料來(lái)提高電極薄膜的透光率。盡管Maruyama不愿透漏這一材料的具體組成,但據(jù)他介紹,其關(guān)鍵因素是提高多晶電極的結(jié)晶顆粒尺寸并增強(qiáng)電極中的遷移。